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最新开发的磨削单元增强主轴精度,改善表面粗糙度 |
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采用非接触测量系统,平稳摆正硅片 |
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加工前进行多点非接触厚度,加工后进行缺口深度及直径测量 |
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模块式设计优化加工过程 |
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螺旋精磨系统 (选项,专利技术) 事项低损伤磨削 |
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最新开发的磨削单元增强主轴精度,改善表面粗糙度 |
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采用非接触测量系统,平稳摆正硅片 |
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加工前进行多点非接触厚度,加工后进行缺口深度及直径测量 |
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模块式设计优化加工过程 |
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螺旋精磨系统 (选项,专利技术) 事项低损伤磨削 |
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| 加工范围为75 - 150 mm或150 - 200 mm |
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| Wafer Slicing Machine: S-LM-116G |
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| 易于进行划切调整。可以在触摸按键设定步距数量,划切次数等 |
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